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XRD衍射系統常見測量模式及應用解析?

更新時間:2025-08-18點擊次數:7
  XRD(X射線衍射)系統是材料結構分析的核心設備,通過探測X射線與材料原子相互作用產生的衍射信號,可獲取晶體結構、物相組成、晶粒尺寸等關鍵信息,廣泛應用于材料科學、地質礦產、生物醫藥等領域。其測量模式根據測試目的不同分為多種類型,每種模式在原理、操作方式和應用場景上存在顯著差異,以下詳細解析四大核心測量模式。?
  一、θ-2θ掃描模式:物相定性與定量分析的基礎?
  θ-2θ掃描模式是XRD系統常用的基礎模式,核心原理是保持X射線源與探測器的夾角為2θ,樣品臺與探測器同步轉動,使探測器始終接收滿足布拉格方程的衍射信號。?
  該模式操作簡單,適用于粉末或塊體樣品的物相分析。在物相定性分析中,通過掃描獲得樣品的衍射圖譜,將特征衍射峰位置與標準PDF卡片對比,可快速確定樣品中含有的物相;物相定量分析則基于“衍射峰強度與物相含量正相關”的原理,通過計算特征峰面積占比,得出各物相的相對含量。此外,θ-2θ掃描還可用于精確計算晶面間距,輔助分析晶體結構畸變,測試范圍通常覆蓋2θ=5°-100°,掃描速度可根據需求調整。?
  二、θ-θ掃描模式:薄膜樣品分析的優選?
  θ-θ掃描模式專為薄膜樣品設計,與θ-2θ模式的核心區別在于:樣品臺固定不動,X射線源與探測器以相同角速度向相反方向轉動,確保X射線入射角與衍射角始終相等,且聚焦點始終落在薄膜表面。?
  薄膜樣品的衍射信號較弱,θ-θ模式可減少X射線在基底中的吸收,增強薄膜的衍射強度,同時避免樣品臺轉動導致的薄膜損傷。該模式主要用于薄膜的物相分析、厚度測量及取向度評估。例如,半導體行業的SiO?薄膜,通過θ-θ掃描可確定其晶體結構是否為無定形或多晶;利用衍射峰的干涉條紋,可計算薄膜厚度;通過分析衍射峰的半高寬或峰形對稱性,還能判斷薄膜的擇優取向,為薄膜制備工藝優化提供依據。?
 

XRD衍射系統

 

  三、小角X射線散射(SAXS)模式:納米尺度結構表征?
  小角X射線散射模式聚焦于2θ=0.1°-5°的小角度范圍,利用X射線通過納米尺度不均勻結構時產生的散射信號,分析材料的微觀結構。?
  與常規XRD模式不同,SAXS不依賴晶體的布拉格衍射,而是基于“電子密度起伏導致的散射”原理。該模式適用于非晶、半晶及納米復合材料的表征,例如:在催化劑研究中,通過SAXS可測定納米催化劑顆粒的尺寸分布;在高分子材料中,分析聚合物球晶的尺寸與分布;在多孔材料中,表征孔洞的大小與連通性。SAXS模式對樣品制備要求低,且為非破壞性測試,能真實反映材料的納米尺度結構,是納米材料研發的重要工具。?
  四、掠入射X射線衍射(GIXRD)模式:表層與界面結構分析?
  掠入射X射線衍射模式通過將X射線入射角控制在極低角度,使X射線僅在樣品表層產生衍射,有效抑制基底信號干擾,專注于表層或界面的結構分析。?
  該模式廣泛應用于多層膜、涂層及表面改性材料的研究。例如,金屬材料表面的防腐涂層,通過GIXRD可分析涂層表層的物相組成;在光伏電池的多層膜結構中,表征各層界面的晶體結構是否匹配,避免界面缺陷影響電池效率;在生物材料中,分析材料表面與細胞接觸區域的結構變化,研究生物相容性。GIXRD模式的關鍵在于精準控制入射角,先進系統通過自動角度校準,可將入射角精度控制在±0.01°,確保表層信號的準確性。?
  綜上,XRD衍射系統的不同測量模式各有側重,θ-2θ模式適用于常規物相分析,θ-θ模式針對薄膜樣品,SAXS模式聚焦納米結構,GIXRD模式專注表層與界面。在實際應用中,需根據樣品類型和測試目的選擇適配模式,同時結合樣品制備工藝與數據解析方法,才能充分發揮XRD系統的結構表征能力,為材料研究與生產提供可靠數據支持。
 

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